Tecnologia de matriz de tela de cristal líquido TFT-LCD

O processo de tela de cristal líquido TFT-LCD é dividido em processo de matriz, processo de embalagem e processo de módulo de acordo com a ordem de processamento. Neste artigo, forneceremos uma introdução detalhada ao primeiro estágio da tecnologia de array.

O processo de matriz é semelhante ao processo semicondutor de fazer sistematicamente dispositivos TFT, pixels e outros padrões em um substrato de vidro. A tecnologia de matriz inclui processo de limpeza, tecnologia de formação de filme CVD, tecnologia de formação de filme Sputter, revestimento fotorresistente ou fotorresistente (PR), tecnologia de desenvolvimento e remoção, tecnologia de exposição, tecnologia de gravação úmida, tecnologia de gravação seca, etc. Finalmente, um padrão de 4-5 filmes finos é formado no substrato de vidro.

Em primeiro lugar, limpe bem o substrato de vidro e, em seguida, forme uma película (método Sputter metálico, método CVD não metálico); Aplicar PR no substrato após a formação do filme e expor com MASK. Transfira o padrão desejado de MASK para PR. Depois de revelar e lavar a parte fotossensível do PR, o PR restante é o padrão desejado; Continuando com o processo de ataque químico (geralmente ataque úmido para metais e ataque seco para não metais), o filme sem proteção PR é removido, deixando para trás o padrão de filme desejado; Finalmente, remova o PR. O tratamento de recozimento deve ser realizado no final do processo da matriz, e a engenharia de inspeção deve ser realizada durante todo o processo da matriz, conforme necessário.